【반도체 제조 개론】 0주차 - 목차

STEP에서 진행하는 나준홍(경남대학교 전기공학과, 조교수)의 반도체 제조 개론이다.

학습기간은 2024-05-15 ~ 2024-06-14이다. 

이 강좌는 반도체 제조에 필요한 단위 소자의 구조 및 특징, 단위 공정의 필요성과 연계성 등, 전반적인 내용에 대한 지식을 함양을 목표로 한다.

 

목차 및 세부 강의 내용

1	반도체 분야와 개념 이해하기
	1강 정리 내용 바로가기 : https://nate0707.tistory.com/23
	반도체의 개념과 분류
	반도체 제조 공정과 소자
	평가하기
2	반도체 단위 소자의 기본 구조 및 동작 원리
	2강 정리 내용 바로가기 : https://nate0707.tistory.com/24
	가장 기초적인 반도체 소자 : PN 접합과 다이오드
	MOS 커패시터 구조와 동작 원리
	MOSFET 구조와 동작 원리
	평가하기
3	반도체 단위 소자의 동작 파라미터
	3강 정리 내용 바로가기 : https://nate0707.tistory.com/25
	MOSFET 반도체 소자의 전류-전압 특성 분석
	MOSFET 반도체 소자의 동작 파라미터
	평가하기
4	차세대 반도체 단위 소자의 특징과 종류
	4강 정리 내용 바로가기 : https://nate0707.tistory.com/26
	MOSFET 반도체 소자의 용도
	다양한 형태의 차세대 MOSFET 반도체 소자
	평가하기
5	실리콘 웨이퍼의 필요성
	5강 정리 내용 바로가기 : https://nate0707.tistory.com/27
	실리콘 소재의 특징
	실리콘 잉곳 생산 방법
	실리콘 웨이퍼 생산 과정
	평가하기
6	반도체 공정 및 시설에 대한 이해
	6강 정리 내용 바로가기 : https://nate0707.tistory.com/29
	반도체 IC Chip 제조 과정 개요
	반도체 공정에서 수율 및 청정실의 개념
	반도체 공정 장비 및 시설 종류와 기본 구조
	평가하기
7	포토리소그래피 공정
	7강 정리 내용 바로가기 : https://nate0707.tistory.com/30
	반도체 IC Chip 제조 과정에서 포토리소그래피 공정의 개요
	포토레지스트의 구성 및 개요
	포토리소그래피 공정 과정
	리소그래피 기술의 중요 파라미터 및 트렌드
	평가하기
8	반도체 열처리 공정
	8강 정리 내용 바로가기 : https://nate0707.tistory.com/31
	반도체 IC Chip 제조 과정에서 열처리 공정의 개요
	열처리 공정의 종류 및 특징
	평가하기
9	반도체 이온주입 공정
	9강 정리 내용 바로가기 : https://nate0707.tistory.com/33
	반도체 IC Chip 제조 과정에서 이온주입 공정의 개요
	이온주입의 기초 및 주요 현상
	이온주입 공정의 적용
	평가하기
10	반도체 식각 공정
	10강 정리 내용 바로가기 : https://nate0707.tistory.com/34
	반도체 IC Chip 제조 과정에서 식각 공정의 개요와 중요 파라미터
	습식 식각 공정의 기본
	건식 식각 공정의 기본
	평가하기
11	반도체 화학 기상 증착(CVD) 공정과 유전체 박막
	11강 정리 내용 바로가기 : https://nate0707.tistory.com/36
	반도체 IC Chip 제조 과정에서 CVD 공정의 개요와 기본 개념
	CVD 공정의 중요 현상과 파라미터 이해
	평가하기
12	반도체 CMP 공정
	12강 정리 내용 바로가기 : https://nate0707.tistory.com/37
	반도체 IC Chip 제조 과정에서 CMP 공정의 개요와 기본 개념
	CMP 공정을 포함하는 표면 평탄화 공정의 종류
	CMP 공정의 세부 요소 및 응용 예시
	평가하기

 

 

수식 쓰는 사이트 :  https://www.sciweavers.org/free-online-latex-equation-editor